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摘要
离子注入机的基本原理是入射离子与半导体(靶)的原子核和电子不断发生碰撞,其方向改变,能量减少,经过一段曲折路径的运动后,因动能耗尽而停止在某处从而改变该处的电学特性以及实现掺杂。该文根据离子注入机各部分的不同作用,将离子体注入机分解为六个技术分支,具体包括离子源、离子筛选系统、加速结构(加速或减速)、束流系统(包括扫描、聚焦等调整注入前束流种类或参数的其他结构)、靶室、控制系统等,根据离子注入机领域产业的发展现状、多个关键技术领域的专利状况,分析了该领域的专利申请量和核心,同时对该领域未来发展趋势进行了预测。
