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摘要
在高真空条件下的水平分瓣铜坩埚内利用高频感应区熔方法提纯镧金属，采用先宽后窄的熔取宽度序列提升区熔提纯效果。采用电感耦合等离子原子发射光谱（ICP-AES）分析区熔后试棒不同部位的杂质含量，结果显示区熔过程中杂质Al、Fe、Cu和Ni随熔区移动方向向试棒尾部迁移，随区熔次数的增加试棒头部一侧杂质含量显著降低，实现较大程度的纯化；实验测试结果低于理论计算结果，偏差程度与杂质元素种类和含量有关。实验结果表明，水冷分瓣铜坩埚可用于活泼金属的区熔提纯实验，10次区熔后可获得较好的提纯效果。
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在高真空条件下的水平分瓣铜坩埚内利用高频感应区熔方法提纯镧金属，采用先宽后窄的熔取宽度序列提升区熔提纯效果。采用电感耦合等离子原子发射光谱（ICP-AES）分析区熔后试棒不同部位的杂质含量，结果显示区熔过程中杂质Al、Fe、Cu和Ni随熔区移动方向向试棒尾部迁移，随区熔次数的增加试棒头部一侧杂质含量显著降低，实现较大程度的纯化；实验测试结果低于理论计算结果，偏差程度与杂质元素种类和含量有关。实验结果表明，水冷分瓣铜坩埚可用于活泼金属的区熔提纯实验，10次区熔后可获得较好的提纯效果。
