摘要
探讨矿质元素、温度、PVP和ABA对赫章樱桃缓慢生长保存的影响。结果显示,1/2 MS、1/4 MS比MS更利于保存;25℃比6℃更适合;PVP可能提高再生率;蔗糖是较好的渗透调节剂,随着浓度从2%到6%,成活率和再生率无明显差异,增殖率提高,而组培苗的生长势越来越差。有趣的是,外源ABA在降低成活率、增殖率和再生率的同时却使植株增高。综上,樱桃缓慢生长保存较适合的培养基为1/2 MS+0.5 mg·L-1 ABA+0.1 mg·L-1 IBA+400 mg·L-1 PVP+2%蔗糖+0.7%琼脂,25℃下可保存8个月,且13条ISSR引物对保存前后的单芽姊妹系植株进行遗传稳定性检测,未发现变异条带。
-
单位贵阳学院