沉积参数对含氢非晶碳膜结构及性能的影响

作者：李明; 王凤; 张艳; 蔺增; 巴德纯

来源：真空科学与技术学报, 2008, (01): 64-66.

DOI：10.13922/j.cnki.cjovst.2008.01.011

• 含氢非晶碳膜
• 射频等离子体增强化学气相沉积
• 过渡层
• 硬度
• 摩擦磨损

本文利用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术,以CH4、H2为气源,Ar为稀释气体,通过增加过渡层和改变输入功率和气体成分比例(CH4/H2),在不锈钢基底上制备了含氢非晶碳膜(a-C:H)。利用拉曼光谱(Raman)、X射线光电子能谱(XPS)、纳米显微硬度计和摩擦磨损试验机等研究手段对含氢非晶碳膜的形貌、结构、显微硬度和耐磨性进行了表征。Ramas光谱和XPS分析表明,薄膜是由sp2和sp3杂化组成的非晶碳膜。显微硬度和摩擦学测试表明,在较低射频功率和富氢等离子体中沉积的a-C:H膜表面光滑、结构致密,薄膜的硬度、摩擦系数、耐磨性和结合力等性能较好。

• 单位
  东北大学