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金属掩膜刻蚀(MHM)微小颗粒缺陷分析及改善方案研究
作者:李光磊
来源:
集成电路应用
, 2023, 40(01): 44-46.
DOI:10.19339/j.issn.1674-2583.2023.01.015
集成电路制造
金属掩膜刻蚀
微小颗粒缺陷
Tiny PA
MHM
摘要
阐述平台产品(HKB)量产过程中产生的所有微小颗粒缺陷发生的晶圆正十字方向位置,金属掩膜刻蚀(MHM)微小颗粒缺陷的形成机理,探讨缺陷成因和解决方案。
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