氦离子辐照下钨纳米丝的自保护行为

作者：吴良; 范红玉^*; 倪维元^*; 许洋; 鲍森; 张雨薇; 周思倩; 牛金海

来源：材料研究学报, 2019, 33(11): 809-814.

• 金属学
• 纳米钨丝
• 辐照
• 自保护

采用低能量(200 eV)大流强的He+辐照多晶钨材料,辐照温度为1023 K和1373 K,辐照剂量为1.0×1025～1.0×1026ions/m2。用称重、扫描电子显微镜、导电原子力显微镜等手段分析辐照后钨材料的质量损失、表面形貌和内表面缺陷分布,研究了刻蚀速率与表面形貌的关系。结果表明,具有粗糙钨纳米丝表面的钨样品刻蚀速率只有平滑表面的30%。其原因是,在大流强He+辐照下钨表面纳米丝的形成阻碍钨原子的溅射。这也意味着,钨纳米丝表面的形成可作为钨材料的自保护结构层,抑制ITER相关辐照下的强刻蚀。

• 单位
  大连民族大学