中温化学镀镍稳定剂的研究

作者：曾振欧; 王勇; 张晓明; 赵国鹏

来源：电镀与涂饰, 2011, (09): 30-33.

DOI：10.19289/j.1004-227x.2011.09.009

• 化学镀镍
• 中温
• 稳定剂
• 沉积速率 electroless nickel plating
• medium temperature
• stabilizer
• deposition rate

在由NiSO4.6H2O25g/L、NaH2PO2.H2O30g/L、CH3COONa20g/L、乳酸15mL/L和十二烷基硫酸钠8mg/L组成的中温(75°C)化学镀镍液(pH4.60～4.65)中,研究了不同稳定剂对镀液稳定性、沉积速率、镀层磷含量、镀层性能等的影响。结果表明,低质量浓度(<8mg/L)的硫脲、2-巯基苯并噻唑及Na2S2O3对镀液的稳定效果较好,但适宜的浓度范围较窄,得到的镀层性能较差。KI作为稳定剂时兼有促进剂的作用,可以在较宽的浓度范围内获得相对稳定的沉积速率。金属盐A兼有稳定剂和光亮剂的作用,其加入使镀层光亮、细致。

• 单位
  广州市二轻工业科学技术研究所; 华南理工大学; 化学与化工学院