物理气相沉积硬质涂层技术进展

作者：童洪辉

来源：金属热处理, 2008, (01): 91-93.

DOI：10.13251/j.issn.0254-6051.2008.01.015

• 物理气相沉积(PVD)
• 硬质涂层 physical vapour deposition(PVD)
• hard coatings

概要介绍了离子镀、磁控溅射、离子束辅助沉积和复合沉积技术的原理和优缺点,并指出了这些技术近年在制备硬质涂层的发展。

• 单位
  核工业西南物理研究院