平板式外延炉大尺寸硅外延层的均匀性调控

作者：康军亮

来源：科技风, 2019, (09): 78.

DOI：10.19392/j.cnki.1671-7341.201909067

• 平板式外延炉
• 硅外延层
• 均匀性
• 调控方法

随着现代电子技术的飞速发展,电子元件的精细化程度也不断提高,加工工艺水平直接决定了电子元件的性能。本文结合平板式外延炉大尺寸硅外延层的均匀性调控展开研究,通过实验方法阐述150mm大尺寸硅抛光片硅外延层特征,分别展开厚度均匀性、电阻率均匀性两大部分的调控方法总结。