场致发射影响微间隙气体放电形成的模拟

作者：徐翱^*; 金大志; 王亚军; 陈磊; 谈效华

来源：高电压技术, 2020, 46(02): 715-722.

DOI：10.13336/j.1003-6520.hve.20200131040

• 场致发射
• 等离子体
• 微间隙
• 气体放电
• 粒子数密度

当间隙间距达到几微米时,其击穿电压将与帕邢曲线显著偏离。文中以间隙间距4μm为典型研究对象,基于网格质点法耦合蒙特卡洛碰撞(PIC-MCC)建立这种微间隙气体放电形成过程的仿真模型,并分析了考虑与不考虑场致电子发射对这种微间隙气体放电形成过程的影响,获得了放电形成过程中不同粒子数密度时空分布、不同粒子速度分布和电场分布等随时间的变化,最后通过分析与讨论得到了间隙间距在2～5μm左右范围时,形成微间隙气体放电过程的主要因素是阴极场致电子发射和随后的离子增强场致电子发射;而当间隙间距小于1μm时场致电子发射将会在形成微间隙气体放电过程中起到主要作用。

• 单位
  中国工程物理研究院电子工程研究所