磁控溅射制备五氧化二钒薄膜的研究

作者：李志栓; 吴孙桃; 李静; 郭东辉

来源：功能材料, 2005, (02): 285-287.

• 射频磁控溅射
• 氧化钒薄膜
• XRD
• XPS
• 激光扫描共焦显微镜 R.F. magnetron sputtering
• vanadium oxide thin film
• XRD
• XPS
• laser scanning confocal microscope

采用射频磁控溅射的方法,在不同条件下制备了氧化钒薄膜样品,分别在不同温度条件下做了退火处理,并对退火前后样品做了X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)和激光扫描共聚焦显微镜测试与分析,旨在得出制备良好的V2O5 薄膜的条件。

• 单位
  厦门大学