掩模硅片自动对准误差校正算法

作者：梁友生; 曹益平; 周金梅; 邢廷文

来源：微纳电子技术, 2005, (01): 42-47.

DOI：10.13250/j.cnki.wndz.2005.01.011

• 光学光刻
• 掩模硅片
• 对准
• 对准模型
• 最小二乘法 photolithography
• reticle-wafer
• alignment
• alignment model
• least square method

为了改善对准精度,对100nm级线宽尺寸建立了掩模硅片自动对准数学模型,应用于同轴离轴混合对准系统的硅片模型、掩模模型以及工件台模型中。掩模硅片自动对准算法决定机器坐标系、掩模坐标系、硅片坐标系相互的位置关系,可很好地校正由掩模硅片引起的平移、线变、旋转、正交性的偏差。

• 单位
  四川大学; 微细加工光学技术国家重点实验室; 中国科学院光电技术研究所