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摘要
电弧离子镀技术已经成为镀膜技术中不可或缺的技术之一，并在金属、装饰、硬质耐磨等领域被广泛研究和应用。膜层技术的研究应用促使对电弧源技术的研究主要集中在长寿命、高可靠性和大颗粒抑制这几方面，且后者的开展必须建立在前者的基础上。大颗粒抑制的关键在于减少弧斑在靶面的驻留时间，可通过巧妙的永磁或电磁设计来实现具有较强横向磁场分量的靶面，但当磁场强度增大时，必须综合考虑纵向磁场和横向磁场的比例关系，考虑靶材本身的特点。另一种抑制大颗粒的方法是脉冲电弧技术，脉冲电弧源引弧频繁，在结构设计上和恒流电弧源有很大的区别，瞬时电流能达到数千、甚至一万安培以上，能够获得很高的沉积速率，同时阳极的设计使等离子体形成定向喷射，过滤掉大部分大颗粒。
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单位安徽工业大学; 中国空间技术研究院
