硅基LiNbO_3薄膜的微结构研究

作者：卢焕明; 叶志镇; 黄靖云; 汪雷; 赵炳辉

来源：无机材料学报, 2005, (04): 971-975.

• LiNbO3薄膜
• 透射电子显微镜
• PLD技术 LiNbO3
• transmission electron microscopy
• pulsed laser deposition

利用透射电子显微镜及X射线衍射,研究脉冲激光沉积技术(PLD)在Si(001)衬底上生长LiNbO3薄膜的微结构.结果表明,在600℃的衬底温度、30Pa的氧分压条件下,在硅片表面5nm厚的非晶氧化层上生长的薄膜,为c轴择优取向的单相LiNbO3晶体.本文还讨论了获得c轴择优取向LiNbO3薄膜的生长机理.

• 单位
  硅材料国家重点实验室; 浙江大学