铜合金/纯铜同基合金电弧离子镀技术的研究

作者：侯文义; 郝俊丽

来源：机械管理开发, 2012, (03): 24-25+27.

DOI：10.16525/j.cnki.cn14-1134/th.2012.03.035

• 同基合金
• 离子镀
• 镀层组织
• 显微硬度 same basic component for both deposited layer and the substrate
• ion plating
• microstructure of deposited layer
• micro-hardness

同基合金离子镀是近年来开发的一项离子热处理新技术,综合了在铜合金/纯铜同基合金离子镀所作的研究,分别对镀层组织、镀层成分、显微硬度和沉积速率进行了讨论。结果表明,青铜/纯铜离子沉积层组织由片层状薄片构成;过渡层的存在使镀层与基材具有令人满意的结合强度。

• 单位
  太原理工大学; 晋中职业技术学院