ZL109铝合金表面多弧离子镀TiN薄膜的制备及性能

作者：谭银元; 潘应君

来源：金属热处理, 2009, 34(11): 31-33.

DOI：10.13251/j.issn.0254-6051.2009.11.012

• 多弧离子镀
• ZL109铝合金
• TiN薄膜
• 性能 multi-arc ion plating
• ZL109 aluminum alloy
• TiN films
• properties

利用正交设计试验探讨了基体温度、偏压、溅射时间、沉积时间对ZL109表面沉积TiN涂层时,对薄膜显微硬度和膜/基结合力的影响。结果表明,在ZL109表面多弧离子镀制备TiN薄膜的最佳工艺为:基体温度260℃、偏压200V、沉积时间30min、溅射时间8min、Ti靶电流80A、炉内总压1Pa(Ar和N2流量比为1∶2)。在此工艺下制备的TiN薄膜显微硬度达到1500HV0.05,膜/基结合力达到36N,膜厚约2～3μm。

• 单位
  武汉科技大学; 武汉船舶职业技术学院