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摘要
本研究选用煮糖常用表面活性剂——蔗糖酯进行实验室模拟煮糖过程,以铁离子和酪氨酸为研究对象,考察了蔗糖酯的HLB值、用量、结晶温度及pH值等因素对蔗糖晶体中无机离子及氨基酸残留量的影响规律。试验发现,蔗糖酯可以明显降低铁离子在蔗糖晶体中的残留量,但氨基酸的残留量增加。为减少氨基酸和铁离子的残留量,通过一系列的单因素实验,确定了最佳的蔗糖酯HLB值、蔗糖酯用量、结晶温度及pH值。本试验的结果为煮糖助剂的选用及使用提供了重要的试验依据,同时也为控制白糖产品杂质含量的新技术新方法的开发提出了一个新的途径。
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