利用优化材料的凸起光栅标记提高莫尔条纹图像的对比度

作者：王莉; 魏慧芬; 王权岱; 周洁; 卢秉恒

来源：中国科学:技术科学 , 2013, (02): 153-160.

DOI：10.1360/ze2013-43-2-153

• 纳米压印
• 莫尔条纹
• 对比度
• 阻蚀胶
• 光栅副间隙

在基于莫尔条纹相位匹配的纳米压印对准方案中,因阻蚀胶引入引起压印对准标记光栅副间隙介质的改变,使得莫尔条纹图像的对比度下降,恶化了压印对准精度.针对这一问题,本文提出了利用优化的标记材料来制备凸起光栅标记从而提高莫尔条纹图像对比度的方法.该方法为提高莫尔条纹图像对比度,通过FDTD(有限时域差分)软件,对玻璃模板及硅片基底上采用的光栅标记材料及光栅副间隙进行了优化计算,在采用常规压印阻蚀胶(折射率为1.6)、压印模板与基底间间隙为200nm、且光栅标记为凸起时,优化光栅标记材料为:玻璃模板上光栅标记为折射率2.0的ITO;基底下光栅标记为折射率2.7的Cr.实验结果表明:在光栅副的间隙介质分别...

• 单位
  西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室; 数字制造装备与技术国家重点实验室; 西安理工大学; 华中科技大学