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摘要
掠射X射线荧光分析为薄层和多层膜特性分析提供了潜在的可能。尤其是可以探测膜层厚度、界面形貌和组成。以北京同步辐射光源作激发光源,采用掠出射方法测试了Si基片上不同厚度的单层Cr膜样品,测试结果与理论计算基本符合。同时观察到一定厚度的薄膜样品产生的掠出射X射线荧光的干涉现象。
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单位中国科学院高能物理研究所; 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所; 应用光学国家重点实验室
掠射X射线荧光分析为薄层和多层膜特性分析提供了潜在的可能。尤其是可以探测膜层厚度、界面形貌和组成。以北京同步辐射光源作激发光源,采用掠出射方法测试了Si基片上不同厚度的单层Cr膜样品,测试结果与理论计算基本符合。同时观察到一定厚度的薄膜样品产生的掠出射X射线荧光的干涉现象。
