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摘要
按照位置分类，概述了3类辅助阳极。第1类布置在阴极附近，能起到吸引电子，增大离化率，并降低沉积温度的效果，同时若有带负电的离子，也会被吸引至阳极；第2类布置在基片的背面，在吸引电子达到阳极的过程中，会增大基片附近工艺气体和沉积物的离化率，正离子在负偏压的引导下会和基底发生碰撞，达到基底活化或者提高膜层质量的目的；第3类为特殊工件类，如管内壁镀膜时通过辅助阳极的布置，提高管腔内等离子体的均匀性，从而增加膜层厚度和质量的一致性。辅助阳极的增加只需在真空室特定位置布置特定形状的阳极即可，即使需要额外引线，只需一个接线法兰口就能完成，非常方便。辅助阳极加载的正电压一般在0至几百伏之间，如果是0，则直接和真空腔室连接即可，必要时串联电阻。辅助阳极技术具有改变离子能量和方向的特点，能起到对大颗粒的抑制作用，能改变到达膜层表面离子的能量，对膜层质量的提高具有重要意义，值得推广。
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单位兰州空间技术物理研究所; 中国空间技术研究院; 安徽工业大学
