下料方式和流量分配对D4合成SiO2的影响

作者：张寒; 黄泽宇; 张国君; 欧阳葆华; 吴学民; 郑丽丽^*

来源：清华大学学报, 2020, 60(03): 233-238.

DOI：10.16511/j.cnki.qhdxxb.2019.26.050

• 化学气相沉积
• 反应流数值模拟
• SiO2疏松体

燃烧器设计和流量控制对燃烧稳定性、 SiO2生成、疏松体品质和关键组分分布有重要影响。该文通过对八甲基环四硅氧烷(OMCTS, D4)制备SiO2疏松体过程的数值研究,分析了不同下料方式,以及D4和氧气流量分配对SiO2生成效率和沉积面上关键组分分布的影响。结果表明:采用多点下料方式可以明显提高SiO2生成率和沉积均匀性;内外D4进口流速接近时,SiO2生成率较高,并且OH浓度有所降低;根据D4质量流量分配对氧气进口流量分配进行调整,能够提高SiO2生成率,但相应的OH浓度也有所增加;但在保持D4质量流量不变的情况下,采用多点下料,导致D4进口速度降低,一定程度上降低了沉积效率。采用多点下料时,可以考虑适当提高D4流量,控制火焰温度,有利于提高SiO2生成和沉积效率。

• 单位
  清华大学; 湖北菲利华石英玻璃股份有限公司