负偏压对多弧离子镀TiN薄膜的影响

作者：袁琳; 高原; 张维; 王成磊; 马志康; 蔡航伟

来源：表面技术, 2012, (1): 20-22,26.

DOI：10.3969/j.issn.1001-3660.2012.01.006

• 多弧离子镀
• 负偏压
• TiN薄膜
• 耐蚀性

采用不同偏压,在201不锈钢表面进行多弧离子镀TiN薄膜,研究了偏压对薄膜表面形貌、硬度、相结构及耐蚀性的影响.研究表明:薄膜表面存在着许多液滴颗粒,随着偏压的增加,液滴减少,但过大的偏压会使表面出现凹坑；薄膜的显微硬度随偏压的升高先增大后减小,偏压为-200 V时的本征硬度为2 195HV；在3.5％的NaCl溶液中,TiN薄膜试样的耐蚀性比基体略有提高,在1 mol/L的H2SO4溶液中,

• 单位
  桂林电子科技大学