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摘要
照明系统是投影光刻曝光光学系统的重要组成部分，它实现的功能是为掩模面提供高均匀性照明、控制曝光剂量以及不同照明模式。变焦系统作为光刻照明系统的重要组成部分，对提高整个光刻机的性能起着至关重要的作用。本文针对紫外光刻照明系统的特点，采用CODE V 软件完成了波长193nm，入瞳直径Φ42mm，像方远心度≤5mrad，畸变≤±1％紫外光刻照明系统中变焦系统的设计，分析了变焦系统的误差源对系统光瞳性能的影响，结合变焦系统的设计方案和实际加工能力，给出单面厚度公差需小于20μm，动件移动精度小于0.1nm，各透镜偏心公差小于0.02mm，各透镜倾斜公差控制在1’之内。制定公差合理、可行，满足了紫外光刻照明系统高均匀性、高能量利用率的要求。
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单位吉林工程技术师范学院
