摘要

这篇论文以Arrhenius定律和ECM器件中离子运动的超势理论作为离子运动的基础,建立了修正的Mott-Gurney微分方程组。虽然Mott-Gurney方程没有解析解,但是作者用这个方程求出了离子的平均位移。再通过基于Cell的几何模型,求出了平均位移与导电细丝生长长度的关系。得到了电压与Forming/Set时间方程和导电细丝生长方程。这篇文章提出了一个提取离子的动力学参数的算法,用这个算法计算了Ag/γ-AgI/Pt,Ag/TiO2/Pt,Ag/ GeS2/W和Cu/SiO2/Au四种器件的电压-Forming/ Set时间特性,其计算结果与实验数据一致。计算结果表明Ag+离子在单晶电介质的γ-AgI,TiO2和GeS2 中的跃迁步长是晶胞的某一个晶格常数,而Ag离子在无定形SiO2的跃迁步长是O-O键的1.57倍。导电细丝生长时,Ag+离子在γ-AgI和TiO2中的导电隧道是间隙隧道,而在GeS2和SiO2 中也存在阳离子的导电隧道,这些导电隧道可以用周期势垒表示。文章里还计算了这四种器件的离子激活频率,势垒高度,迁移率,扩散系数和导电细丝生长长度与时间特性,讨论了ECM器件电介质材料选择的标准。