SnO2-CdO复合薄膜的制备及其光电性能研究

作者：崔伟哲; 韩玉蕊; 顾广瑞^*

来源：延边大学学报(自然科学版), 2021, 47(03): 228-232.

DOI：10.16379/j.cnki.issn.1004-4353.2021.03.008

• 磁控溅射
• SnO2-CdO薄膜
• 晶相结构
• 透过率
• 电阻率

使用射频磁控溅射技术,以原子百分比为4∶1和1∶4的SnO2和CdO制备了SnO2-CdO复合薄膜.XRD分析表明,SnO2-CdO (4∶1)复合薄膜为SnO2(310)和Cd2SnO4(011)的混合相多晶结构,且结晶性能良好.随着氧流量的增加,薄膜的择优生长方向由SnO2(310)转变为Cd2SnO4(011).薄膜在可见光和近红外光范围内的最高透过率达到95%和91%,最高平均透过率达到87%和85%,光学带隙在3.80～3.90 eV范围内变化.电阻率随着薄氧流量的增加而下降,最低为0.133Ω·cm.薄膜的厚度约为330 nm,其表面由大量分布均匀的球形颗粒组成.原子百分比为4∶1的SnO2-CdO复合薄膜的光电性能优于原子百分比为1∶4的SnO2-CdO复合薄膜.

• 单位
  延边大学