全息光栅光刻胶掩模槽形演化及其规律研究

作者：陈刚; 吴建宏; 刘全

来源：光学技术, 2008, 34(1): 133-135,140.

DOI：10.3321/j.issn:1002-1582.2008.01.041

• 衍射光栅
• 全息光栅掩模
• 槽形模拟
• 占宽比控制

为了控制全息光栅光刻胶掩模槽形,运用曝光模型和显影模型模拟了掩模的槽形形成过程和变化规律.实验对比了不同曝光量,不同显影浓度,不同空频条件下的掩模槽形,特别是占宽比(光栅齿宽度与光栅周期的比)的情况.实验结果表明,实际槽形与模拟槽形很接近.模拟和实验均发现,在大曝光量、高浓度显影、高空频的光栅条件下所得槽形占宽比较小,槽深主要由原始胶厚决定.

• 单位
  南京信息职业技术学院; 苏州大学