大颗粒缺陷在电弧离子镀所制备薄膜中的分布状态研究

作者：魏永强; 文振华; 蒋志强; 田修波

来源：真空, 2013, (06): 7-10.

DOI：10.13385/j.cnki.vacuum.2013.06.010

• 电弧离子镀
• 薄膜
• 大颗粒
• 分布状态 arc ion plating
• film
• macroparticles
• distribution

针对电弧离子镀制备薄膜产生的大颗粒问题,本文主要研究了大颗粒在薄膜中的分布状态。根据大颗粒尺寸和薄膜厚度之间的比例关系,将其划分为三种类型:表面缺位型、镶嵌型和完全贯穿型,其中镶嵌型又划分为表面镶嵌型、中间镶嵌型、镶嵌生长型和重叠镶嵌型等四种类型,并对其形成原因分别进行了分析。

• 单位
  郑州航空工业管理学院; 机电工程学院; 哈尔滨工业大学; 先进焊接与连接国家重点实验室