铜蚀刻液蚀刻工艺的研究

作者：章学春; 聂航; 李玉兴

来源：上海化工, 2023, 48(04): 33-36.

DOI：10.16759/j.cnki.issn.1004-017x.2023.04.020

• 过氧化氢
• 铜
• 蚀刻液

研究了以过氧化氢为主成分的铜蚀刻液。采用小试蚀刻机模拟产线测试条件，考察铜离子质量浓度、铜络合剂的种类与质量分数、过氧化氢质量分数、蚀刻温度以及蚀刻压力对铜蚀刻速率的影响。得到的最佳蚀刻条件为：铜离子质量浓度为3 g/L，铜络合剂选用亚氨基二乙酸且质量分数为1.5%，过氧化氢质量分数为20%，温度为30～45℃，压力为0.2 MPa。