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摘要
在CVD沉积SiC过程中，载气体H2与沉积SiC基体表面的反应影响沉积速率和沉积产物品质，因此研究这些微观反应机理具有十分重要的科学意义和工程价值.本文基于第一性原理研究了H2在3C-SiC（111）(硅原子暴露面)和3C-SiC■（碳原子暴露面）面的吸附位置、吸附能、电子结构和覆盖率等吸附情况.发现H2倾向于吸附在3C-SiC（111）面，H原子的最稳定吸附位为OT位（顶位）且属于化学吸附. H2在吸附时会自发解离为两个H原子，以双顶位形式吸附在两个相邻的Si原子上.该过程中基体表面Si原子的电子向H偏移，此时两者的主要相互作用源于Si原子的p轨道和H的s轨道的重叠杂化.通过计算氢气在表面的覆盖率，发现吸附能随着覆盖率的增大而增大，在低H覆盖率（θH≤4/9 ML）下，H原子之间存在着较强的吸引力，随着H覆盖率的增加（θH>4/9 ML）,H原子之间排斥力逐渐增大，吸附能增加趋缓，整体结构更加稳定.
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