第十九讲 真空溅射镀膜

作者：张以忱

来源：真空, 2016, 53(04): 79-80.

DOI：10.13385/j.cnki.vacuum.2016.04.18

• 磁控溅射靶
• 不均匀
• 端部
• 刻蚀
• 蚀刻
• 水蚀
• 靶材利用率
• 溅射镀膜

<正>(接2016年第3期第80页)由于工作时是匀速旋转的,因而不但溅射更加均匀,靶材利用率也大大提高,一般的平面磁控溅射靶的靶材利用率极低(不足20%),而这种结构靶材利用率超过70%。

• 单位
  东北大学