杨氏双缝干涉实验中,在理想单色扩展光源照射下,干涉条纹的可见度不仅仅和光源宽度有关.本文理论模拟了理想单色扩展光源照射情况下光源宽度、狭缝间距离等多项因素对干涉图样可见度的影响,模拟结果有助于学生对单色扩展光源干涉图样清晰程度的理解和掌握.
科研之友
微信
新浪微博
Facebook
分享链接
