通过多羧基共聚物改性合成了具有高选择性抗污染型的分子印迹膜.通过聚合反应合成共聚物,经过相转化过程制备了分子印迹膜.制备的膜具有较强的亲水性、抗污性、选择性和较好的稳定性.该材料制备方法操作简单,成本较低,具有较高的应用价值.