摘要

目的 通过测量分析头颅侧位片对比种植支抗和颌间支抗对隐形矫治器远移上颌磨牙患者上切牙位置的影响。材料与方法 选择2017年04月-2022年09月就诊于合肥市口腔医院正畸一科利用无托槽隐形矫治技术远移上颌磨牙的患者32例(种植支抗组16例颌间支抗组16例),分别在治疗前和治疗后拍摄头颅侧位片,测量两组患者骨性参数(SNA、SNB、ANB、MP-SN、MP-FH、S-Go/N-Me、ANS-Me/N-Me),软组织参数(UL-EP、LL-EP、Z角、N’-Sn-Pog’)及牙性指标(U1-Apo、U6-Ptm、L1-Apo、U1-PP、U6-PP、L6-MP、U1-SN、L1-MP),比较两组间的差异。结果 两组治疗前各参数差异均无统计学意义(P>0.05);颌间支抗组治疗后OP-SN、L1-Apo、U1-PP、L6-MP增大,Ptm-U6减小,差异均有统计学意义(P<0.05);种植支抗组治疗后Ptm-U6减小,差异有统计学意义(P<0.05);治疗后两组间各参数差异无统计学意义(P> 0.05)。结论无托槽隐形矫治器远移上颌磨牙时可以获得2~3mm远移量,根据需要选择不同支抗方式,对于磨牙远移量大于3mm的患者、上切牙过于唇倾或舌倾的患者建议使用种植支抗使用Ⅱ类牵引增强支抗可能会使上颌矫治器发生形变,导致上切牙伸长、舌倾,临床需注意控制牵引时间并注意适应证的选择;在上颌磨牙远移时可能会发生腭尖下垂,建议设计方案时适当增加牙冠负转矩。

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