抛光工艺对晶片表面粗糙度的影响

作者：郭东; 张文斌; 刘国敬; 赵祥

来源：电子工业专用设备, 2022, 51(03): 40-68.

• 碲锌镉
• 抛光工艺
• 粗糙度

介绍了碲锌镉晶片抛光机的工艺过程和原理，研究了抛光工艺中抛光液粒度、抛光压力、抛光液流量和工作台转速对晶片表面粗糙度及平整度的影响，并提出了提高晶片抛光加工表面质量的方法和实际加工效果。

• 单位
  中国电子科技集团公司第四十五研究所