聚天冬氨酸与钨酸钠复配对白铜B10的缓蚀作用

作者：朱律均; 徐群杰; 曹为民; 万宗跃; 周国定; 林昌健

来源：Acta Physico - Chimica Sinica, 2008, (05): 805-809.

• 光电化学
• 聚天冬氨酸
• 钨酸钠
• 白铜B10
• 缓蚀剂 Photoelectrochemistry
• PASP
• Na2WO4
• Cupronickel B10
• Inhibitor

应用光电化学的方法研究了两种环境友好型缓蚀剂聚冬天氨酸(PASP)和钨酸钠(Na2WO4)的单一配方及其复配对白铜B10在硼砂-硼酸缓冲溶液中的缓蚀作用.研究表明,在光电流循环伏安测试中,单一的PASP与Na2WO4均能够使B10表面Cu2O膜引起的p型光电流响应增大,这说明缓蚀剂增大了Cu2O膜的厚度,使B10的腐蚀速率减小.单一的PASP与Na2WO4的最佳添加浓度分别为3和5mg·L-1,单一的Na2WO4比单一的PASP使p型光电流响应增大趋势更大.若以总浓度为5mg·L-1时对两者进行复配,当PASP与Na2WO4的质量浓度比为1∶1和1∶3时,两者复配比单一使用时的p型电流光响应都...

• 单位
  上海电力学院; 上海大学; 厦门大学; 固体表面物理化学国家重点实验室