吉非替尼新晶型及其基于超临界反溶剂技术的制备方法

作者：江燕斌; 黄银霞; 刘贵金; 汪红娣

来源：2016-05-31, 中国, ZL201610378192.9.

本发明公开了吉非替尼新晶型及其基于超临界反溶剂技术的制备方法。吉非替尼新晶型为β晶型,β晶型在XRPD图谱上2θ角为6.7的位置具有最强特征峰；在XRPD图谱上2θ角约为6.7、13.0的位置具有主要特征峰,所述主要特征峰的相对强度大于20％；在XRPD图谱上2θ角为14.0、19.7、26.1、32.8、38.8、40.5、46.5的位置具有特征峰,所述特征峰的相对强度不大于5％。本发明基于超临界反溶剂技术的制备方法过程工艺简单、条件温和、重现性好,所得吉非替尼晶型β粒径较小且粒度分布较窄,溶解度较高。

• 单位
  华南理工大学