DY-2001A型纳米级电子束曝光机中静电偏转器的设计

作者：刘珠明; 顾文琪; 李艳秋

来源：微细加工技术, 2004, (01): 23-27+46.

• 静电偏转器
• 二阶有限元
• 优化
• 像差 electrostatic deflector
• second-order finite element
• optimization
• aberrations

基于纳米曝光要求和JSM-35CF型扫描电镜,设计了一组上下偏转器长度不一致的静电偏转器,使偏转灵敏度大大提高。采用二阶有限元法计算了八极静电偏转器的轴上场分布。高精度的场分布有利于高级像差。为了使系统的总体像差最小,结合具体电子光学系统,用最小二乘法对偏转器的激励强度、转角及其在系统中的位置进行优化,得到直至五级分量的像差。动态校正后,偏转场为80μm×80μm时,束斑分辨率约为3.2nm;偏转场大小为1mm×1mm时,束斑分辨率约为29.8nm。结果表明,应用该组静电偏转器的电子光学系统的分辨率满足纳米曝光的要求。

• 单位
  中国科学院研究生院; 中国科学院电工研究所