磁控溅射法制备柔性大尺寸ITO薄膜的研究

作者：霍林智; 朱小宁; 魏立帅; 李浩洋; 王璐; 高阳; 李海涛; 田占元

来源：陕西煤炭, 2020, 39(S1): 83-87.

• 直流磁控溅射
• 大尺寸ITO薄膜
• 光电性能

为了获得适合手机触摸屏使用的ITO薄膜,寻找制备ITO薄膜的最佳工艺条件,研究了溅射功率、基底走速、氧气流量、氩气流量等工艺条件对ITO薄膜光电性能的影响。结果表明:当溅射功率为3. 6 kW,基底走速为1. 2 m/min,氧气流量为10. 35 sccm,氩气流量为125 sccm时,所制得的ITO薄膜方阻最接近目标方阻180Ω/□,在400～780 nm可见光范围内,平均透过率达到最高值85. 17%。通过采用大型卷对卷磁控溅射镀膜机制备柔性大尺寸ITO薄膜,实现了性能优良的ITO薄膜中试试验,为ITO薄膜的工业化量产提供了一条途径。

• 单位
  陕西煤业化工技术研究院有限责任公司