TiN涂层的制备及其性能研究

作者：姬清华; 严芳芳

来源：现代制造技术与装备, 2016, (11): 57-58.

DOI：10.16107/j.cnki.mmte.2016.0937

• TiN涂层
• 磁控溅射
• 微观组织

本文通过射频磁控溅射沉积的方法,采用Ti N靶材在基体上制备了氮化钛涂层,并利用扫描电镜、能谱分析仪、划痕仪、超景深显微镜,对制备的氮化钛涂层的宏观、微观形貌及力学性能进行了检测。研究表明,基体表面形成界面结合良好,镀层十分致密,无孔隙和裂纹等缺陷,实验最佳溅射功率为97.5W。

• 单位
  机电工程学院; 新乡学院