简要概述了激光在半导体技术中的主要应用.这些应用大致涵盖激光掺杂、激光退火、激光沉积薄膜、激光引发固相反应和激光光刻等几方面.激光光刻中,选取248 nm KrF,193 nm ArF和157 nm F2准分子激光光刻着重进行了探讨.分析了这些激光工艺的现状、特点和最新进展,并对存在的问题和发展趋势作了研究.