基于DMD光刻制作微柱透镜阵列分模曝光的研究

作者：张恒煦; 董连和; 王丽; 孙艳军; 冷雁冰; 吴博琦; 李哲; 刘顺瑞

来源：真空科学与技术学报, 2016, 36(12): 1441-1445.

DOI：10.13922/j.cnki.cjovst.2016.12.17

• 无掩模光刻
• 数字微镜
• 灰度掩模
• 微柱透镜阵列
• 分模曝光

针对无掩模光刻技术制作微柱透镜阵列的面形精度问题,对曝光方式和掩模设计进行研究,采用一种分模曝光方法,包括图形分层,掩模设计,分层掩模灰度调制,分层曝光四个步骤。在曝光前,需要对二维掩模版图按设计结构高度进行分层,以实现单层掩模在抗蚀剂上的投影成像高度不超过物镜的焦深范围。基于数字微镜阵列对灰度掩模的空间调制原理,设计出匹配的分层掩模版图,给出了图形分层原则和方法以及模板设计的原理。实验结果表明:采用该方法制作微柱透镜阵列,面形平均误差为0.54μm,相比以往单模曝光平均误差值0.79μm,平均误差减小了0.25μm,该方法弥补了由物镜焦深限制所造成的技术问题,提高了曝光质量。

• 单位
  长春理工大学