基于高光谱成像技术的涂抹掩盖字迹识别方法研究

作者：王鸣久; 代雪晶^*; 汤澄清; 卢兆一

来源：红外技术, 2023, 45(01): 56-63.

• 高光谱成像
• 掩盖字迹
• 无损检验
• 黑色签字笔

在刑事案件和民事案件中，许多重要文件中的签名、日期、数字等字迹常常被有意涂抹而掩盖其真实信息，因而无法作为证据使用。因此，开展高光谱成像技术（450～950 nm）快速无损显现涂抹掩盖字迹十分必要。涂抹掩盖字迹中，黑色签字笔作为书写及涂抹工具占多数，因此从21种黑色签字笔中随机选取两种进行相互涂抹作为样本。同时，选取墨水中含有碳元素和不含有碳元素的黑色签字笔各两支，用同一支笔书写字迹并进行涂抹掩盖作为样本。实验结果表明，用高光谱成像技术在450～950 nm波长范围内进行显现肉眼无法辨别的涂抹掩盖字迹，大部分被涂抹掩盖的字迹能够得到完整、清晰的显现，反映出被掩盖字迹的真实形态与信息，具有良好的显现效果。部分显现效果不佳，原书写字迹细节特征残缺，但能识别出原字迹，还有少部分较为模糊，无法达到检验要求。而使用传统红外显现方法时，大部分涂抹掩盖字迹难以显现。

• 单位
  中国刑事警察学院