磁共振弥散成像及灌注成像在短暂性脑缺血发作中的应用价值

作者：任彬骅

来源：现代电生理学杂志, 2020, 27(02): 78-81.

• 脑缺血发作,短暂性
• 磁共振成像,弥散
• 灌注成像

目的:探讨磁共振弥散成像(DWI)及磁共振灌注成像(PWI)在短暂性脑缺血发作(TIA中的应用价值。方法:选择2014年2月至2018年2月就诊于湖南省中医药研究院附属医院的短暂性脑缺血患者63例,将其分为DWI组、PWI组与MRI组,每组21例。MRI组采用常规磁共振检查,DWI组和PWI组分别采用DWI和PWI检查,比较各组缺血性病灶检出情况。结果:DWI与PWI组缓解期和发作期阳性病灶检出率均高于MRI组(P<0.05),经过1～2周的治疗后,DWI组8例和MRI组1例发展为脑梗死。结论:磁共振弥散加权成像及灌注成像对于短暂性脑缺血发作患者缺血病灶的检出率明显高于常规磁共振成像,对治疗及预后判断有重要意义。

• 单位
  湖南省中医药研究院附属医院