基于纳米压印技术分布反馈激光器阵列的ONU光源研究

作者：陈鑫; 赵建宜; 周宁; 曹明德; 黄晓东; 刘文

来源：光学学报, 2014, 34(11): 190-195.

• 光学制造
• 纳米压印
• 半导体激光器
• 单片光子集成

利用纳米压印工艺及对接生长工艺制作了基于分布反馈(DFB)激光器阵列的适用于波分复用光无源网络(WDM-PON)光网络单元(ONU)的低成本光源芯片。器件使用单片集成多模干涉器进行合波输出。测试结果显示,器件平均阈值小于10mA,边模抑制比大于40dB,波长调谐范围大于10nm,出光功率大于0.2mW。

• 单位
  武汉光电国家实验室; 中国科学技术大学先进技术研究院; 华中科技大学; 光学与电子信息学院