科研之友
微信
新浪微博
Facebook
分享链接
摘要
采用DC反应磁控溅射工艺在K424合金基底上制备了ZrO2薄膜,并对薄膜进行了不同温度的热处理,采用XRD、SEM和EDS等分析手段对薄膜的表面形貌、成分及晶体结构进行了表征,并研究了ZrO2薄膜对基底元素扩散的阻挡能力。结果表明,热处理后薄膜主要为单斜相ZrO2,含少量四方相。800℃以下热处理的薄膜致密平整,无裂纹出现,900℃热处理后基底元素Ti扩散至薄膜表面生成TiO2,导致ZrO2薄膜阻挡扩散作用失效。800℃以下热处理的ZrO2薄膜可以有效阻挡镍基合金元素的扩散。
-
单位西北工业大学; 凝固技术国家重点实验室
