压印光刻中的两步对正技术

作者：王莉; 卢秉恒; 丁玉成; 刘红忠

来源：光子学报, 2006, 35(10): 1608-1612.

• 压印光刻
• 对正准确度
• 光栅
• 莫尔信号
• 粗对正
• 精对正

压印光刻中套刻需要粗、精两级对正.实验采用一对斜纹结构光栅作为对正标记.利用物镜组观察光栅标记图像的边界特征进行粗对正,其准确度在精对正信号的捕捉范围内;利用光电接收器件阵列组合接收光栅莫尔信号,在莫尔信号的线区进行精对正.由于线性区的斜率大,精对正过程中得到相应x,y方向的对正误差信号灵敏度高,利用高灵敏度对正误差信号作为控制系统的驱动信号,对承片台进行驱动定位,实现精对正.最终使X,Y方向上的重复对正准确度分别达到了±21nm(±3σ)和±24nm(±3σ).

• 单位
  西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室