介绍了双面光刻机的类型、工作原理及特点，研究分析了双掩模光刻机的曝光方式，提出了一种通过改进曝光模式、提高双掩模光刻机曝光分辨率及基片曝光线条均匀性的方法，并通过生产线工艺验证及数据分析，得出通过该工艺曝光模式，满足生产线实际工艺要求。
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