机器人恒压球形公自转磨头抛光技术研究

作者：黄智; 吴湘; 刘海涛; 万勇建; 郑晓; 陈祥

来源：中国机械工程, 2020, 31(05): 519-526.

• 光学抛光
• 去除函数
• 抛光工具
• 抛光压力

采用工业机器人进行大口径光学元件的研抛过程中,机器人自身定位误差会导致研抛压力产生波动,进而影响去除函数稳定性,为此提出了一种机器人恒压球形公自转磨头抛光方法,并对其结构、工作原理、机器人定位特性以及研抛压力输出特性开展了研究。首先,基于Preston理论构建了材料去除模型,对去除函数形状进行了分析,对所设计抛光磨头的机械结构与工作原理进行了介绍。然后,对机器人定位误差以及磨头输出力响应性与稳定性进行了测量,验证了所提方法能够较好地适应机器人研抛压力波动而做出的力响应控制。最后,进行了定点抛光以及粗、精磨抛加工实验。实验结果表明:利用所提方法去除函数的稳定性强,通过10个周期的粗、精抛加工,面形收敛率分别为90.95%、72.61%,可获得较高的加工精度与面形质量。

• 单位
  中国科学院光电技术研究所; 电子科技大学