新型玻璃刻蚀用光刻胶的研制

作者：巫文强; 柯旭; 黄晔; 王跃川

来源：应用化学, 2007, 24(02): 134-138.

DOI：10.3969/j.issn.1000-0518.2007.02.004

• 玻璃刻蚀
• 光刻胶
• 掩膜
• 超支化聚酯

采用环氧树脂改性超支化聚酯制备了玻璃刻蚀用的光刻胶掩膜,研究了该感光树脂的感光活性、耐刻蚀性,以及加入HCI、HNO_3后刻蚀对玻璃刻蚀的影响。结果表明,所得感光树脂对玻璃有较好的附着力,厚度为40～50μm的胶膜在ω(HF)为40％的溶液中抗浮胶时间超过6 min,光刻胶初始曝光时间T_0为2．7 s,反差值γ_(gel)为2．8;混合刻蚀剂对载玻片玻璃的刻蚀速度≥35μm/min;以该光刻胶为单层掩膜,可得到线宽50μm的清晰刻蚀图样,玻璃的刻蚀深度超过38μm。

• 单位
  四川大学; 高分子材料工程国家重点实验室