透明导电GZO/Cu/GZO多层薄膜的室温生长及性能研究

作者：别勋; 王钰萍; 吕建国; 叶志镇

来源：西安理工大学学报, 2011, (02): 214-218.

DOI：10.19322/j.cnki.issn.1006-4710.2011.02.017

• ZnO
• 多层薄膜
• 透明导电
• 磁控溅射 ZnO
• multilayer thin films
• transparent conductive property
• magnetron sputtering

研究Ga掺杂ZnO(GZO)和Cu薄膜形成的GZO/Cu/GZO多层薄膜体系,以期提高透明导电薄膜的综合性能。GZO/Cu/GZO多层薄膜由直流磁控溅射技术在室温下制备,研究Cu层厚度对多层薄膜结构、电学和光学性能的影响。结果表明GZO/Cu/GZO多层薄膜具有较好的结晶性能。随着Cu层厚度的增加,多层薄膜的可见光透射率有所降低,同时电学性能大幅度提升。在Cu层厚度为7.5 nm时,GZO/Cu/GZO多层薄膜获得最优的光电综合性能指标,且相对于单层GZO薄膜ΦTC因子从7.65×10-5Ω-1增加到1.48×10-3Ω-1。

• 单位
  浙江大学; 硅材料国家重点实验室